特許

J-GLOBAL ID：200903033980551785

極低誘電率化学調剤用のイオン系添加物

発明者： ロバート ピー. マンダル ,  アレックス デモス ,  ティモシー ウェイドマン ,  マイケル ピー. ノールト ,  ニコラオス ベキアリス ,  スコット ジェフリー ウェイゲル ,  リー エー. セネカル ,  ジェイムズ イー. マック ドーガル ,  ハレーシュ スリディナム
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-106073
公開番号（公開出願番号）：特開2002-026003
出願日： 2001年04月04日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 多孔質シリコン酸化物をベースにした膜を堆積するための前駆体溶液調剤を提供する。【解決手段】 前駆体溶液調剤には、シリコン酸化物、水、溶媒中に精製された非イオン系界面活性剤と添加物とが含まれる。添加物は、酸性の前駆体溶液中でアンモニウムイオン種の塩を作るアミン添加物又はイオン系添加物である。この前駆体溶液調剤を使うことにより、2.5よりも小さい誘電率、適切な力学的特性、及び最小レベルのアルカリ金属不純物を有する膜を形成することができる。1つの実施形態においては、界面活性剤を精製して、テトラアンモニウム塩及びアミン等のアミン添加物又はイオン系添加物を、前駆体原液に加えることによって達成される。

請求項（抜粋）：

基板にわたって誘電層を形成するプロセスであって、シリコン酸化物、水、溶媒、非イオン系界面活性剤、イオン系添加物及び酸触媒の可溶性源を含む溶液で前記基板を塗布するステップ、前記溶液を多孔質シリコン酸化物膜に硬化させるために、前記塗布された基板を処理するステップ、を含む、前記プロセス。

IPC (6件)：

H01L 21/316 ,  B05D 5/12 ,  B05D 7/24 302 ,  C09D 5/25 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/768

FI (8件)：

H01L 21/316 G ,  H01L 21/316 P ,  B05D 5/12 D ,  B05D 7/24 302 Y ,  C09D 5/25 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/90 P ,  H01L 21/90 V

Fターム (35件)：

4D075BB16X ,  4D075BB26Z ,  4D075BB28Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA02 ,  4D075CA23 ,  4D075CA47 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA06 ,  4D075EA12 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC07 ,  4D075EC35 ,  4D075EC37 ,  4D075EC54 ,  4J038DL021 ,  4J038DL032 ,  4J038DL082 ,  4J038JA35 ,  4J038JB01 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038NA21 ,  5F033RR04 ,  5F033RR29 ,  5F033SS22 ,  5F033XX24 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BC04 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• セラミックフィルムの形成方法及びセラミックフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-372712   出願人：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド