特許

J-GLOBAL ID：200903033995333407

熱間圧延工程の直接冷却水系の処理方法

発明者： 村元 祐 ,  松本 正次 ,  浅野 忠彦 ,  小林 靖夫
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社 ,  株式会社片山化学工業研究所
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-299936
公開番号（公開出願番号）：特開平8-155529
出願日： 1994年12月02日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】 製鉄所の循環式熱間圧延工程直接冷却水系における圧延機内のスプレー部の周辺機器の腐食及びスプレーノズルの閉塞等の障害を防止する。【構成】 熱間圧延工程用の直接冷却水に、塩素剤が0.1〜2.0mg/L(ただし、有効塩素として)及びスケール防止剤が0.5〜10mg/Lの濃度になるように添加して、前記熱間圧延工程にてスプレーすることを特徴とする熱間圧延工程用直接冷却水系の処理方法。

請求項（抜粋）：

熱間圧延工程用の直接冷却水に、塩素剤が0.1〜2.0mg/L(ただし、有効塩素として)及びスケール防止剤が0.5〜10mg/Lの濃度になるように添加して、前記熱間圧延工程にてスプレーすることを特徴とする熱間圧延工程用直接冷却水系の処理方法。

IPC (4件)：

B21B 45/02 320 ,  C23F 11/167 ,  C23F 11/173 ,  C23F 11/18

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-115433   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
• 特開昭64-017882