特許

J-GLOBAL ID：200903034030295622

連続真空浸炭方法およびその装置

発明者： 平本 昇
出願人/特許権者： 株式会社日本ヘイズ
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-351480
公開番号（公開出願番号）：特開2003-155552
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 連続真空浸炭処理におけるタイムロスをなくして生産性の向上を図るとともに、各工程の処理が異なる真空浸炭処理においてもフレキシブルな対応を可能なものとする。【解決手段】 連続真空浸炭装置1の真空セル2内に、互いに真空シール扉で仕切られていない、昇温処理、浸炭処理、拡散処理、降温処理のいずれにも使用することができる加熱室6,7,8,9を設ける。一定のタクトかつ一定のピッチで浸炭未処理品を供給し、昇温処理、浸炭処理、拡散処理、降温処理を行う。この際、真空セル2内であって加熱室外の空間の圧力を各加熱室6,7,8,9内の圧力よりも低く維持する。

請求項（抜粋）：

1つの真空セル内に互いに真空シール扉で仕切られていない複数の加熱室を有する連続真空浸炭装置の前記加熱室内に浸炭未処理品を供給し、前記真空セル内であって前記複数の加熱室外の空間の圧力を前記各加熱室内の圧力よりも低く維持した状態で、前記各加熱室内で前記浸炭未処理品を昇温し、浸炭し、拡散し、降温することを特徴とする連続真空浸炭方法。

IPC (3件)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/06 ,  C21D 1/773

FI (3件)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/06 A ,  C21D 1/773 D

Fターム (3件)：

4K028AA01 ,  4K028AC03 ,  4K028AC04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 連続真空浸炭方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-043881   出願人：株式会社不二越
• 特開昭58-130270
  
• 特開昭60-141863