特許
J-GLOBAL ID：200903079663331206
連続真空浸炭方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043881
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355755
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：
【要約】【課題】 昇温室、浸炭室、拡散室、降温・保持室及び冷却室を含む連続真空浸炭炉において、広い範囲の浸炭温度領域にわたって浸炭深さの変化に効率的に対応しフレキシビリティを増した連続浸炭方法及び装置を提供。【解決手段】前記拡散室は浸炭室と兼用の浸炭兼拡散室12とし、浸炭兼拡散室12で真空浸炭処理及び拡散処理を行うようにする。好ましくは浸炭兼拡散室12に複数のトレイ等13を順次装入しながら、対応した数のトレイ等13を次室の降温・保持室19に払出しする場合、真空浸炭処理及び拡散処理を合わせた真空浸炭処理を、真空浸炭処理及び拡散処理を合わせた処理時間を、浸炭兼拡散室12のトレイ等の数の最大数を装入払出しされるトレイ等の数で除して端数を切り捨てた数である装入払出回数の整数倍に分割して実施し、分割した回数だけ浸炭拡散したとき表面炭素濃度が所定の濃度となり浸炭深さも所定の深さが得られるようにした。
請求項（抜粋）：
昇温室、浸炭室、拡散室、降温・保持室及び焼入室を含む鉄合金部品の連続真空浸炭炉において、前記拡散室は浸炭室と兼用の浸炭兼拡散室とし、前記浸炭兼拡散室で真空浸炭処理及び拡散処理を行うことを特徴とする連続真空浸炭方法。
Fターム (3件)：
4K028AA01
, 4K028AC03
, 4K028AC04
