特許
J-GLOBAL ID:200903034050520096

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-229074
公開番号(公開出願番号):特開2004-061087
出願日: 2002年08月06日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】簡単な構成で装置の大型化を招くことなく、水タンクの装置内への漏水を防止し、衛生的で使い勝手のよい高周波加熱装置を提供する。【解決手段】被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置100であって、高周波加熱装置100の外面のいずれかの位置に、蒸気発生部へ水を供給するための水タンク23を脱着自在に配設した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、 前記高周波加熱装置の外面のいずれかの位置に、前記蒸気発生部へ水を供給するための水タンクを脱着自在に配設したことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (4件):
F24C7/02 ,  F22B1/28 ,  F24C1/00 ,  H05B11/00
FI (5件):
F24C7/02 H ,  F24C7/02 501J ,  F22B1/28 A ,  F24C1/00 310A ,  H05B11/00 Z
Fターム (11件):
3K086AA03 ,  3K086AA10 ,  3K086BA01 ,  3K086BA08 ,  3L086AA01 ,  3L086AA03 ,  3L086AA07 ,  3L086BA08 ,  3L086DA08 ,  3L086DA19 ,  3L086DA24
引用特許:
審査官引用 (2件)

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