特許
J-GLOBAL ID：200903034061736619

光波形整形装置

発明者：
瀧口 義浩

瀧口 義浩 について

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伊藤 研策

伊藤 研策 について

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山中 淳平

山中 淳平 について

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高坂 正臣

高坂 正臣 について


出願人/特許権者：
浜松ホトニクス株式会社

浜松ホトニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-124598
公開番号（公開出願番号）：特開2002-318354
出願日： 2001年04月23日
公開日（公表日）： 2002年10月31日
要約：
【要約】【課題】 波長分散特性を充分に変化させることが可能な光波形整形装置を提供する。【解決手段】 ゲル状の物質内にシリカやチタン酸バリウムの微小球または気泡を複数含有させて可塑性のホトニック結晶2とし、入力光に波長分散を与える分散媒質として用いる。このホトニック結晶2に対して、波長分散制御手段を構成している外力印加手段3によって外力を印加すると、ホトニック結晶2が変形し、そのホトニックバンド構造と、バンド構造に伴う波長分散特性とが容易に変化する。これにより、外力を印加することによって、波長分散特性を充分に変化させることが可能な光波形整形装置が実現される。
請求項（抜粋）：
所定波長帯域内の入力光に対して、所定の波長分散を発生させる光波形整形装置であって、ホトニックバンド構造と、波長毎に屈折率が異なる波長分散特性とを有し、かつ、外力または外場を印加することにより前記波長分散特性が変化する可塑性のホトニック結晶からなる分散媒質と、前記ホトニック結晶の前記波長分散特性を保持または変化させる波長分散制御手段とを備えることを特徴とする光波形整形装置。
IPC (2件)：
G02B 26/00 ,  G02F 1/01
FI (2件)：
G02B 26/00 ,  G02F 1/01 F
Fターム (15件)：
2H041AA21 ,  2H041AB10 ,  2H041AB38 ,  2H041AC02 ,  2H041AC07 ,  2H041AZ00 ,  2H079AA07 ,  2H079AA12 ,  2H079AA13 ,  2H079BA01 ,  2H079CA04 ,  2H079DA03 ,  2H079EB24 ,  2H079FA01 ,  2H079KA05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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