エッチング処理装置及び処理方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-174616
公開番号（公開出願番号）：特開2004-022747
出願日： 2002年06月14日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】フィードバック制御を行う際に生じる予期せぬ副作用への懸念を軽減し、多大な労力、時間をかけずに制御モデルを構築することのできるエッチング処理方法を提供する。【解決手段】単一の被エッチング膜113に対してそれぞれ異なるレシピを適用した複数のエッチングステップからなるエッチング処理を施すエッチング処理装置であって、該エッチング処理装置は、前記エッチングステップのうち前記被エッチング膜に接する下層膜に影響を与える最後のエッチングステップ(ステップ5)に適用するレシピを予め設定したレシピに固定し、残余のエッチングステップ(ステップ4)に適用するレシピを処理結果をもとに生成するレシピ生成手段を備え、該レシピ生成手段が生成したレシピをもとにエッチング処理を施す。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

単一の被エッチング膜に対してそれぞれ異なるレシピを適用した複数のエッチングステップからなるエッチング処理を施すエッチング処理装置であって、該エッチング処理装置は、前記エッチングステップのうち前記被エッチング膜に接する下層膜に影響を与える最後のエッチングステップに適用するレシピを予め設定したレシピに固定し、残余のエッチングステップに適用するレシピを処理結果をもとに生成するレシピ生成手段を備え、該レシピ生成手段が生成したレシピをもとにエッチング処理を施すことを特徴とするエッチング処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/3065

FI (1件)：

H01L21/302 103

Fターム (10件)：

5F004AA05 , 5F004BA04 , 5F004BB18 , 5F004CA08 , 5F004CB20 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F004DA26 , 5F004DB02 , 5F004EB02

引用特許：

審査官引用 (1件)

エッチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-141304 出願人：松下電子工業株式会社

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