プラズマプロセス装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：深見久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077538
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267252
出願日： 2000年03月21日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】異常プラズマの発生を防止して、均一なプラズマ処理を安定して実施することが可能なプラズマプロセス装置を提供する。【解決手段】プラズマプロセス装置は、内壁面を有し、内部でプラズマを用いた処理を行なう処理室1、2と、処理室の内部に面する一方壁面と、その一方壁面と反対側に位置し処理室の内壁面に対向する他方壁面とを有し、その他方壁面と処理室の内壁面の一部との間に空間を形成するように配置され、処理室の内部にマイクロ波を伝搬して放射するマイクロ波放射部材5と、反応ガス供給手段14、15、21、22とを備え、反応ガス供給手段は、マイクロ波放射部材の他方壁面と処理室の内壁面の一部との間に形成された空間を有する反応ガス供給路15を含み、さらに、マイクロ波放射部材の他方壁面のうち反応ガス供給路に面する領域上に配置されたマイクロ波透過防止部材16を備える。

請求項（抜粋）：

内壁面を有し、内部でプラズマを用いた処理を行なう処理室と、前記処理室の内部に面する一方壁面と、その一方壁面と反対側に位置し前記処理室の内壁面に対向する他方壁面とを有し、その他方壁面と前記処理室の内壁面の一部との間に空間を形成するように配置され、前記処理室の内部にマイクロ波を伝搬して放射するマイクロ波放射部材と、前記マイクロ波によってプラズマ状態にされる反応ガスを前記処理室の内部に供給する反応ガス供給手段とを備え、前記反応ガス供給手段は、前記マイクロ波放射部材の他方壁面と前記処理室の内壁面の一部との間に形成された空間を有する反応ガス供給路を含み、さらに、前記マイクロ波放射部材の他方壁面のうち前記反応ガス供給路に面する領域上に配置されたマイクロ波透過防止部材を備える、プラズマプロセス装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/511 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 H , C23C 16/511 , H05H 1/46 B , H01L 21/302 B

Fターム (24件)：

4G075AA24 , 4G075BC04 , 4G075CA26 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075FC11 , 4K030FA01 , 4K030KA49 , 4K030LA15 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BC03 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F045AA09 , 5F045BB02 , 5F045BB20 , 5F045CA15 , 5F045DP03 , 5F045EF05 , 5F045EH05 , 5F045EH06

引用特許：

出願人引用 (7件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-225048 出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-132031 出願人：日本電気株式会社, 住友金属工業株式会社
シャワープレート、シャワープレート周辺構造及びプロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-097978 出願人：大見忠弘, 株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所

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