特許

J-GLOBAL ID：200903034142859790

成膜装置

発明者： 神田 広行
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社
代理人 (1件)： 大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175430
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007096
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】ピンホール等の欠陥を生じることなく、歩留りの向上を図れると共に清掃作業等に要する時間を短縮して生産性の向上を図れる成膜装置を提供する。【解決手段】ガラス基板を連続的に所定方向に搬送するベルトコンベア50と、ベルトコンベア50上に載置されたガラス基板を覆う空間を画定する成膜炉60と、成膜炉60の内部に膜の原料を供給する原料供給通路61と、成膜炉60の内部を排気する排気通路62とを備え、化学的気相成膜法により連続的に複数のガラス基板の表面に膜を生成する成膜装置において、成膜炉の内壁面に対して、着脱自在に内壁板70又は第2内壁板71を設けた。

請求項（抜粋）：

基板を収容する空間を画定する成膜炉の内部に膜の原料を供給し、化学的気相成膜法により基板の表面に膜を生成する成膜装置であって、前記成膜炉の内壁面に対して着脱自在に配置された内壁板を有する、ことを特徴とする成膜装置。

Fターム (11件)：

5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045BB10 ,  5F045BB15 ,  5F045CA15 ,  5F045DP23 ,  5F045EB02 ,  5F045EB05 ,  5F045EB06 ,  5F045EC05 ,  5F045EG10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体製造装置の反応炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-181850   出願人：国際電気株式会社
• 特開昭64-080022