特許
J-GLOBAL ID：200903034185601169
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
ポーラス コーネリス デュインフェルト
, ポーラス コーネリス デュインフェルト について
ペーター ダークセン
, ペーター ダークセン について
アレクセイ ユーリービッチ コレスニーチェンコ
, アレクセイ ユーリービッチ コレスニーチェンコ について
ヘルマー ファン サンテン
ヘルマー ファン サンテン について
出願人/特許権者：
コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ.
, コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ. について
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について
代理人 (4件)： 浅村 皓 , 浅村 肇 , 岩本 行夫 , 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-030038
公開番号（公開出願番号）：特開2005-223342
出願日： 2005年02月07日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】浸漬リソグラフィの結像品質に対する浸漬液中の気泡の影響を低減するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】電圧発生装置が浸漬液と接触している対象物に電位差を印加し、その結果、浸漬液中の気泡表面の運動電位によって、浸漬液中の気泡及び/又は粒子が対象物から引き寄せられる、又ははじかれる浸漬リソグラフィ装置が開示される。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
放射の投影ビームを提供するための照明システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が前記投影ビームの断面にパターンを与える支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間の少なくとも一部分を浸漬液で満たすための液体供給システムと、
前記液体供給システムによって供給された浸漬液全体に第1の電位を印加して、前記浸漬液中の気泡及び/又は粒子を移動させるための電源と
を有するリソグラフィ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
引用特許：
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