特許
J-GLOBAL ID：200903000325627714

ペリクル、その製法及び露光方法

発明者：
重松 茂人

重松 茂人 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269490
公開番号（公開出願番号）：特開2000-162761
出願日： 1999年09月22日
公開日（公表日）： 2000年06月16日
要約：
【要約】【課題】 紫外光、特に真空紫外光に対する透過性に優れており、光分解による膜厚減少傾向が抑制され、その結果優れた耐光性を有するペリクル及びその製法を提供することにある。【解決手段】 有機ポリマーを処理してこの有機ポリマーに含まれる微量金属成分及び/又は高分子量成分及び/又は不完全分子構造成分を除去する操作を施して得られる不純物除去有機ポリマーをペリクル膜の材料として用いることを特徴とするペリクル膜。
請求項（抜粋）：
下記の条件(a)乃至(c)を同時に備えたことを特徴とするペリクル膜。(a)ArFのエキシマレーザー光(波長λ=193ナノメートル(nm))を下記の条件で照射した場合の膜厚減少量が5ナノメートル(nm)に達するまでの総照射量が1420ジュール/平方センチメートル(J/cm2)以上であること。 ArFのエキシマレーザー光照射条件 ・パルスエネルギー密度:0.1(mJ/cm2)/pulse ・繰り返し周波数 :100Hz ・照射面積 :10mm×10mm ・雰囲気 :乾燥空気20リットル(L)/分(min) フロー(b)炭素(C)とフッ素(F)或いは更に酸素(O)を主要な成分とするフッ素樹脂である。(c)膜厚が0.1乃至10ミクロンメーター(μm)である。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
引用特許：
審査官引用 (4件)
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