有害物質除去剤およびそれを用いた有害物質除去方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131232
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290164
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【構成】少なくとも光半導体と粘土鉱物と有機質バインダとを含有して成る造粒体あるいはそれらの成形体である。【効果】優れた有害物質除去能力を有し、その強度が高く長期間にわたって使用でき、しかも、分離・回収などの取扱い性がよく、有害物質除去剤として幅広い用途に適用できる。

請求項（抜粋）：

少なくとも光半導体と粘土鉱物と有機質バインダとから成る造粒体あるいはそれらの成形体であることを特徴とする有害物質除去剤。

IPC (7件)：

B01J 35/02 , B01D 53/86 ZAB , B01J 2/28 , B01J 20/02 , B01J 21/06 ZAB , B01J 23/06 , B01J 35/04 301

FI (8件)：

B01J 35/02 J , B01J 2/28 , B01J 20/02 Z , B01J 21/06 ZAB A , B01J 23/06 , B01J 35/04 301 P , B01D 53/36 ZAB J , B01D 53/36 ZAB H

引用特許：

審査官引用 (3件)

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