特許
J-GLOBAL ID:200903034247430609

磁気ディスクの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-119015
公開番号(公開出願番号):特開2001-006169
出願日: 2000年04月20日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 磁気ディスクと磁気転写用マスタとの接触時に異常突起の発生しない方法を提供することを目的とする。【解決手段】 強磁性層を有する磁気ディスクにバーニッシュ処理を施した後、磁性部を所定の情報信号に対応する配列パターン形状になるように形成してなる磁気転写用マスタを前記磁気ディスクの表面に重ね合わせるとともに、前記磁気転写用マスタの磁性部を磁化することにより、磁気転写用マスタの情報信号の配列パターンを情報信号の磁化パターンとして磁気ディスクに転写記録することにより、磁気転写時に発生する微少突起を除去することができる。
請求項(抜粋):
強磁性層を有する磁気ディスクにバーニッシュ処理を施した後、磁性部を所定の情報信号に対応する配列パターン形状になるように形成してなる磁気転写用マスタを前記磁気ディスクの表面に重ね合わせるとともに、前記磁気転写用マスタの磁性部を磁化することにより、磁気転写用マスタの情報信号の配列パターンを情報信号の磁化パターンとして磁気ディスクに転写記録することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2件):
G11B 5/84 ,  G11B 5/86
FI (2件):
G11B 5/84 Z ,  G11B 5/86 C
Fターム (5件):
5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112GA09 ,  5D112GA11 ,  5D112GA13
引用特許:
審査官引用 (6件)
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