特許
J-GLOBAL ID:200903034390206639

スライダ及びその製造方法並びに薄膜ヘッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 合田 潔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-136931
公開番号(公開出願番号):特開平8-339511
出願日: 1996年05月30日
公開日(公表日): 1996年12月24日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 基板上に突出して、読み/書き(R/W)装置と記録媒体間の磁気間隔を縮小させる、化学-機械的磨きにより形成した突出形状のR/W装置を備えた複合薄膜スライダを提供する。【解決手段】 基板502とR/W装置504を有し、さらにR/W装置は絶縁体600と種々の導電性R/W構成部材605を有する。これらの構成部材は、多重シールド601、602、MR帯603、極チップ604である。また、スライダは磨耗、汚染、損傷などからの保護のために基板とR/W装置を覆うほぼ均一の皮膜(炭素ベースの層など)606を有する。必要に応じて、皮膜はR/W装置の前を薄くしたり、取り除くことも可能である。基板のベアリング表面の延伸面より上に突出し、R/W装置がスライダの操作の際に記録媒体に非常に近接することを可能にする。
請求項(抜粋):
(A)ベアリング表面と、隣接する被覆端部を有する基板を提供するステップと、(B)上記被覆端部上にR/W装置を作成するステップと、(C)ラップ磨きスラリにより上記ベアリング表面を磨くステップとを有し、上記R/W装置作成ステップ(B)は、(a)上記被覆端部上に上記基板とは異なる物質から成る絶縁体を設ける工程と、(b)R/W構成部材を設ける工程は次の(イ)、(ロ)、(ハ)の工程とを有し、(イ)上記絶縁体内に少なくとも1つのシールド層を埋め込む工程と、(ロ)上記絶縁体内に磁気抵抗帯の層を埋め込む工程と、(ハ)上記絶縁体内に磁気極チップの層を埋め込む工程とを有し、上記磨きステップ(C)は、上記ベアリング表面と絶縁体を上記R/W構成部材に比べて不均衡に侵食して、上記R/W構成部材が上記絶縁体より突き出て、また上記基板のベアリング表面の延伸面以上に突き出るようにすることを特徴とする、読取り/書込み用磁気ヘッドとして使用するためのスライダを製造する方法。
IPC (5件):
G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/60 ,  G11B 21/21 101 ,  G11B 21/21
FI (5件):
G11B 5/31 Z ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/60 C ,  G11B 21/21 101 L ,  G11B 21/21 101 K
引用特許:
審査官引用 (2件)

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