特許

J-GLOBAL ID：200903034423641484

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-069870
公開番号（公開出願番号）：特開2006-251550
出願日： 2005年03月11日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】電子線使用時における真空中PED特性とラインエッジラフネスを同時に満足し、またEUV光使用時における感度、溶解コントラストに優れた電子線、X線又はEUV用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A1)特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、(A2)特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有する電子線、X線又はEUV用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A1)下記一般式(I)で表される繰り返し単位及び一般式(III)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、 (A2)下記一般式(II)で表される繰り返し単位及び一般式(III)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)溶剤 を含有することを特徴とする電子線、X線又はEUV用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (20件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-219757号公報
  
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-234733   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型電子線、X線又はEUV用レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-043492   出願人：富士写真フイルム株式会社