特許
J-GLOBAL ID：200903091131121050

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

, 
丹 史郎

丹 史郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-234733
公開番号（公開出願番号）：特開2002-049156
出願日： 2000年08月02日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【課題】 限界解像力、現像欠陥、リニアリティ及びドライエッチング耐性の4点で良化したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の2種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)下記一般式(I)、(II)及び(III)で表される繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記式中、Lは、水素原子、置換されていてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。Zは、置換されていてもよい、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、又は置換されていてもよいアラルキル基を表す。L’は、Lと同義である。Wは、Zと同義である。ZとL、WとL’は、互いに結合して5又は6員環を形成してもよい。ただし、ZとWが同一となることはない。
IPC (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 13/08 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/16 ,  C08K 13/08 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (55件)：
2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002ER028 ,  4J002EU008 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EV318 ,  4J002EX007 ,  4J002FD206 ,  4J002FD208 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03 ,  4J100AB02T ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AB07S ,  4J100AL03S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15S ,  4J100BA51Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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