特許
J-GLOBAL ID：200903034514313510
マスクパターンの修正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-087586
公開番号（公開出願番号）：特開平8-314120
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【課題】 下地ガラスとの付着強度が強く、下地ガラスにダメージを与えたり修正膜にクラックを生じさせることなく、耐薬品性に優れ、膜剥れの生じない修正膜を形成できるマスクパターンの修正方法を提供する。【解決手段】 マスクパターンの白欠陥の修正を、レーザCVDにより、Mo(CO)6およびCr(CO)6を原材料として一層目の修正膜24を形成し、この一層目の修正膜を覆うように、Cr(CO)6を原材料として二層目の修正膜26を形成して行う。
請求項（抜粋）：
レーザCVDによるマスクパターンの白欠陥の修正方法において、Mo(CO)6およびCr(CO)6を原材料として一層目の修正膜を形成し、この一層目の修正膜を覆うように、Cr(CO)6を原材料として二層目の修正膜を形成することを特徴とするマスクパターンの修正方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 W
, H01L 21/30 502 W
