特許
J-GLOBAL ID:200903034620797445

透明導電膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 米田 潤三 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-250247
公開番号(公開出願番号):特開平9-071857
出願日: 1995年09月04日
公開日(公表日): 1997年03月18日
要約:
【要約】【課題】 加熱やプラズマ等の影響により変質、劣化、熱分解を生じたり脱ガスを生じるような耐熱性および耐プラズマ性の低い基材上に成膜される低抵抗で透明性が高くパターニング特性に優れる透明導電膜と、このような透明導電膜を簡便に形成することができる製造方法を提供する。【解決手段】 透明導電膜は、結晶粒を有しX線回折法における(222)面のピーク強度I1 と(400)面のピーク強度I2 との比I1 /I2 が5以上であり、かつ比抵抗が0.8×10-4〜3.5×10-4Ω・cmの範囲である透明導電膜で、このような透明導電膜を、フォロカソード型イオンプレーティング法を用い、蒸着源と基材との間にプラズマを形成し、このプラズマにより基材が悪影響を受けないような条件で基材上に成膜する。
請求項(抜粋):
耐熱性および耐プラズマ性の低い基材上に設けられる透明導電膜において、結晶粒を有し、X線回折法における(222)面のピーク強度I1 と(400)面のピーク強度I2 との比I1 /I2 が5以上であるとともに、比抵抗が0.8×10-4〜3.5×10-4Ω・cmの範囲であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (2件):
C23C 14/08 ,  H01B 13/00 503
FI (2件):
C23C 14/08 D ,  H01B 13/00 503 B
引用特許:
審査官引用 (3件)

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