基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲岡耕作 , 川崎実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-041312
公開番号（公開出願番号）：特開2008-205311
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：

【課題】処理カップでの種類の異なる薬液の混触を防止することができる基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板処理装置の再起動処理時には、スプラッシュガード34や遮断板22が順次に退避位置(原点位置)に復帰される原点復帰動作が行われる(ステップE3)。原点復帰動作の完了後は、処理カップ7が洗浄される処理カップ洗浄処理が実行される(ステップE5)。処理カップ洗浄処理では、第1〜第4空間81,82,83,84に対して洗浄液としての純水が供給される。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板を保持しつつ回転させる基板回転手段と、前記基板回転手段によって回転される基板に対して、第1薬液を供給する第1薬液供給手段と、前記基板回転手段によって回転される基板に対して、第1薬液と種類の異なる第2薬液を供給する第2薬液供給手段と、前記基板回転手段による基板の回転軸線を取り囲むように形成され、基板から飛散する第1薬液を進入させるための第1開口部、および前記第1開口部から進入した第1薬液が導かれる第1空間、ならびに、前記回転軸線と平行な方向に前記第1開口部と異なる位置において前記回転線を取り囲むように形成され、基板から飛散する第2薬液を進入させるための第2開口部、および前記第2開口部から進入した第2薬液が導かれる第2空間を有する処理カップと、所定の起動処理後、前記第1薬液供給手段による第1薬液の供給開始または前記第2薬液供給手段による第2薬液の供給開始までの間に、前記第1開口部および前記第2開口部からそれぞれ第1空間および第2空間に洗浄液を供給して、前記第1空間内および前記第2空間内を洗浄する洗浄手段とを含むことを特徴とする、基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 , H01L 21/027 , B08B 3/02 , H01L 21/306 , G02F 1/13 , G02F 1/133

FI (9件)：

H01L21/304 643Z , H01L21/30 569Z , H01L21/30 564C , H01L21/304 643A , H01L21/304 648H , B08B3/02 B , H01L21/306 R , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500

Fターム (28件)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201AB48 , 3B201BB22 , 3B201BB32 , 3B201BB92 , 3B201BB99 , 3B201CB12 , 3B201CC01 , 3B201CC13 , 3B201CD22 , 3B201CD35 , 3B201CD43 , 5F043BB27 , 5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE33 , 5F046JA16 , 5F046JA27 , 5F046LA08 , 5F046LA19

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-250494 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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