特許
J-GLOBAL ID:200903034643243021

高温再生器及び吸収冷凍機

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 宮川 貞二 ,  金井 俊幸 ,  宮川 清 ,  松村 博之 ,  内藤 忠雄 ,  柴田 茂夫 ,  吉村 裕子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-273757
公開番号(公開出願番号):特開2007-085619
出願日: 2005年09月21日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】 腐食の進行を抑制して寿命を延ばした高温再生器及びこの高温再生器を備える吸収冷凍機を提供すること。【解決手段】 溶液Sw、Saを流す複数の液管10と、液管10に下部から溶液Swを分配する環状に形成された液室14と、循環流Rsを形成するように希溶液Swを液室14に導入する希溶液供給管11と、希溶液Swの導入位置より下流で、循環流Rsを横断する方向に濃溶液Saを液室14に導入する濃溶液供給管12とを備える高温再生器32A、及び高温再生器32Aを備える吸収冷凍機とすると、液室14に導入された濃溶液が希溶液の循環流の持つせん断力により細分化され、濃溶液は速やかに希溶液と混合して希釈されるので過濃度溶液による腐食の進行が抑制されて高温再生器の寿命が延び、吸収冷凍機の寿命も延びる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
内部に溶液を流す複数の液管と; 前記液管に、前記液管の下部から前記溶液を分配する、内部に前記溶液を流す環状に形成された液室と; 前記液室内に循環流を形成するように圧送される、前記溶液の濃度が所定の濃度である希溶液を、前記液室に導入する希溶液供給管と; 前記溶液の濃度が前記希溶液の濃度よりも高い濃溶液を、前記希溶液が導入される位置より下流に、かつ、前記循環流を横断する方向に、前記液室に導入する濃溶液供給管とを備える; 高温再生器。
IPC (1件):
F25B 33/00
FI (1件):
F25B33/00 Z
引用特許:
出願人引用 (1件)

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