特許

J-GLOBAL ID：200903034647970220

アミノ基で被覆された表面

発明者： ペーター スルカ ,  ディーク ベイヤー ,  ヘルムート リングスドルフ ,  ヴォルフガング クノール
出願人/特許権者： ベーリンガー マンハイム ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-121173
公開番号（公開出願番号）：特開平10-114832
出願日： 1997年05月12日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】 改善された性質を有する、誘導体化可能なアミノ基で被覆された表面を製造するための方法を提供する。【解決手段】 パルスプラズマを用いて重合可能なアミンを表面に塗被することによって、アミノ基で被覆された表面を製造する。これにより得られた被覆表面は高密度のアミノ基を有しており、そのアミノ基被覆表面に特異的結合対の一方の相手を共有結合させることによって特異的結合相を得ることができる。

請求項（抜粋）：

パルスプラズマを用いて重合可能なアミンを表面に塗被する、アミノ基で被覆された表面の製造方法。

IPC (9件)：

C08J 7/18 ,  C08J 7/04 ,  C09D201/02 ,  G01N 33/543 525 ,  G01N 33/543 ,  G01N 33/547 ,  C07C209/00 ,  C07D207/46 ,  C07D495/04 103

FI (9件)：

C08J 7/18 ,  C08J 7/04 E ,  C09D201/02 ,  G01N 33/543 525 U ,  G01N 33/543 525 W ,  G01N 33/547 ,  C07C209/00 ,  C07D207/46 ,  C07D495/04 103

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 放電プラズマ処理方法及び放電プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-154220   出願人：積水化学工業株式会社