特許

J-GLOBAL ID：200903064472501350

放電プラズマ処理方法及び放電プラズマ処理装置

発明者： 湯浅 基和 ,  河合 重征 ,  屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-154220
公開番号（公開出願番号）：特開平9-059777
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1997年03月04日
要約：

【要約】【課題】 少量の処理ガスで所望の処理が可能であり、かつ、簡便な放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

請求項（抜粋）：

被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

IPC (7件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/30 ,  H05H 1/42 ,  H05H 1/46 ,  C08J 7/00 306

FI (7件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/30 ,  H05H 1/42 ,  H05H 1/46 A ,  C08J 7/00 306 ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (9件)

• 特開平4-337076
  
• 特開平3-241739
  
• 特表平4-504986
  
• 特開平4-074525
  
• プラズマ薄膜製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088821   出願人：株式会社アイ・エヌ・アール研究所
• コロナ放電処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-150904   出願人：日本ペイント株式会社, マツダ株式会社
• グロー放電プラズマ処理方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-133716   出願人：積水化学工業株式会社
• 特許第3373114号
  
• 特許第3347973号