放電プラズマ処理方法及び放電プラズマ処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-154220
公開番号（公開出願番号）：特開平9-059777
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1997年03月04日
要約：

【要約】【課題】少量の処理ガスで所望の処理が可能であり、かつ、簡便な放電プラズマ処理装置及び放電プラズマ処理方法を提供する。【解決手段】被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

請求項（抜粋）：

被処理部に処理ガスを供給しながら、不活性気体中で発生させた放電プラズマを当該被処理部に向けて突出させることを特徴とする放電プラズマ処理方法。

IPC (7件)：

C23C 16/50 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H05H 1/30 , H05H 1/42 , H05H 1/46 , C08J 7/00 306

FI (7件)：

C23C 16/50 , H01L 21/205 , H05H 1/30 , H05H 1/42 , H05H 1/46 A , C08J 7/00 306 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (15件)

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