特許

J-GLOBAL ID：200903034652439877

ホウ素含有水の処理方法

発明者： 今村 正樹 ,  工藤 敬司
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257226
公開番号（公開出願番号）：特開2001-079564
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】 ホウ素を含有する溶液から効率的にホウ素を除去する方法を提供する。【解決手段】 ホウ素含有する溶液をイオン交換樹脂に通水してホウ素を吸着させた後、樹脂層に鉱酸溶液を通液してホウ素を溶離し、得られた高濃度ホウ素を含有する溶液にシリコン化合物を添加した後カルシウム化合物により中和する。

請求項（抜粋）：

ホウ素含有水をイオン交換樹脂と接触させホウ素を吸着させた後、前記イオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄してホウ素を鉱酸溶液中に溶離し、溶離されたホウ素を含有する前記鉱酸溶液にシリコン化合物を添加し、かつカルシウム化合物を添加し、pHを8以上としてホウ素を沈殿除去することを特徴とするホウ素含有水の処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/58 ,  C02F 1/42

FI (2件)：

C02F 1/58 H ,  C02F 1/42 E

Fターム (16件)：

4D025AA09 ,  4D025AB33 ,  4D025BA13 ,  4D025BB02 ,  4D025BB07 ,  4D025CA03 ,  4D025DA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB25 ,  4D038BA02 ,  4D038BB06 ,  4D038BB08 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D038BB20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭57-081881
  
• 汚染プロセス流からの重金属、放射性汚染要因物の除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-087832   出願人：ウエスチングハウス・エレクトリック・コーポレイション