特許
J-GLOBAL ID：200903034667772840
集束イオンビーム装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141708
公開番号（公開出願番号）：特開平8-007823
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 試料とガス銃の先端部とが接触することを防止したFIB装置、および接触しても破損を少なくできるFIB装置を提供することを目的とする。【構成】 ガス銃4の先端部4aの直下にエッジセンサ7が取りつけられている。エッジセンサ7は、通常は所定の長さを保っている伸縮自在な探針7aと、探針7aに電気的に接続された検出回路7bとで構成され、探針が試料2に接触して長さが縮むと、検出回路7bには所定の電流が流れて、探針7aが試料2に接触したことが認知される。【効果】 接触防止手段により試料とガス供給源とが、所定距離より接近したことを検知することができるので、試料とガス供給源の先端部との接触を防ぐことができ、試料とガス供給源の先端部との接触によるガス供給源の先端部の破損を防止できる。
請求項（抜粋）：
集束されたイオンビームを可動ステージの上に載置された試料表面に照射する装置と、前記試料表面にガスを供給するガス供給源とを備えた集束イオンビーム装置において、前記試料と前記ガス供給源とが所定距離より接近したことを検知して、前記試料と前記ガス供給源の先端部との接触を防ぐ接触防止手段を備えたことを特徴とする集束イオンビーム装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01J 37/244
, H01J 37/305
