特許
J-GLOBAL ID：200903034695914480
洗浄方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266395
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092633
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：
【要約】【課題】 洗浄部材を高い洗浄度に自己洗浄することにより、洗浄効果を高め、且つ洗浄部材の寿命を延ばし、洗浄装置の処理能力を高めることができる洗浄方法を提供する。【解決手段】 半導体基板やガラス基板、液晶パネル等の基板を洗浄する洗浄方法において、基板に洗浄部材を当接させてスクラブ洗浄し、洗浄後の洗浄部材を表面が粗い修正部材15の平面に擦り付けて自己洗浄する。
請求項（抜粋）：
半導体基板やガラス基板、液晶パネル等の基板を洗浄する洗浄方法において、該基板に洗浄部材を当接させてスクラブ洗浄し、洗浄後の洗浄部材を表面が粗い平面に擦り付けて自己洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 1/00
H01L 21/304 341 B
, B08B 1/00
