特許

J-GLOBAL ID：200903034844849815

塗布方法及び装置

発明者： 時政 泰彦 ,  片桐 良伸
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-037196
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236434
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：

【要約】【課題】 スロットダイコーター及びスライドビードコーターでの高精度塗布における段状ムラを改善する。【解決手段】 上流側リップランド長さが1mm、下流側リップランド長さが50μmのスロットダイ13で、ウエブ12上に塗布液を塗布し、湿潤膜厚5μmの塗布を実施した。ウエブ12にはセルローストリアセテート基材を用い、塗布液には液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。スロットダイ13の先端リップ17とウェブ12との隙間を50μm、減圧チャンバー30のバックプレート30aとウェブ12との隙間、及びサイドプレート30bとウェブ12との隙間をともに100μm、減圧度を1600Paに設定した。ビード形成時の減圧度の変動幅は80Paで、塗膜14bに段状ムラは認められなかった。

請求項（抜粋）：

ウェブに近接させたスロットダイコーターまたはスライドビードコーターのダイの先端リップからウェブにかけてビードを形成し、前記ビード近傍を、バックプレートを有する減圧チャンバーにより減圧して、バックアップロール上の前記ウェブに塗布液を塗布する方法において、前記バックプレートと前記ウェブとの隙間を、前記先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくなるように、前記減圧チャンバーを設置することを特徴とする塗布方法。

IPC (4件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00 ,  G11B 5/842

FI (4件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 7/00 A ,  G11B 5/842 Z

Fターム (40件)：

4D075AC02 ,  4D075AC16 ,  4D075AC72 ,  4D075AC78 ,  4D075AC80 ,  4D075AC93 ,  4D075BB56Y ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA04 ,  4D075DB01 ,  4D075DB02 ,  4D075DB07 ,  4D075DB18 ,  4D075DB31 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DB63 ,  4D075DB64 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075DC28 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4D075EA45 ,  4D075EB19 ,  4F041AA11 ,  4F041AB01 ,  4F041BA12 ,  4F041BA21 ,  4F041BA56 ,  4F041CA02 ,  4F041CA03 ,  4F041CA13 ,  4F041CA22 ,  4F041CA25 ,  5D112CC01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-154708   出願人：コニカ株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209198   出願人：コニカ株式会社
• 特開昭62-197176