紫外線処理装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-149475
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318236
出願日： 1995年05月23日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】表裏両面の同時処理が連続的に可能、かつ小型で生産性の高い紫外線処理装置を提供する。【構成】被処理物に上下方向から紫外線を照射することができるよう上下に配設された紫外線ランプ2と、被処理物を紫外線ランプ間で支持するための線状の被照射物支持手段3と、被処理物を紫外線ランプ間に搬入するとともに照射処理済の被処理物を紫外線ランプ間から搬出するための線状の被処理物搬送手段4とを備え、被処理物搬送手段が上昇、前進、下降、後退する機能を有し、被処理物を持ち上げて前進し、次に下降して被処理物を被照射物支持手段にのせた後、最初の位置まで後退する動作を繰り返すよう構成する。

請求項（抜粋）：

被処理物に上下方向から紫外線を照射することができるよう上下に配設された紫外線ランプ(2a,2b)と、被処理物を紫外線ランプ間で支持するための被処理物支持手段(3)と、被処理物を搬出するための被処理物搬送手段(4)とを備え、被処理物支持手段(3)は、紫外線ランプ(2a,2b)間に、被処理物の進行方向に張架された少なくとも2本の線状体よりなり、被処理物搬送手段(4)は、紫外線ランプ(2a,2b)間に、被処理物の進行方向に張架された少なくとも2本の線状体よりなることを特徴とする紫外線処理装置。

IPC (5件)：

B08B 7/00 , H01L 21/304 341 , H01L 21/68 , H01L 23/50 , H05K 3/26

FI (5件)：

B08B 7/00 , H01L 21/304 341 D , H01L 21/68 A , H01L 23/50 A , H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (2件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-345911 出願人：株式会社日立製作所
特開昭62-281344

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