特許
J-GLOBAL ID:200903034899452140

レジスト成分からの金属不純物の除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-234495
公開番号(公開出願番号):特開平5-234877
出願日: 1992年09月02日
公開日(公表日): 1993年09月10日
要約:
【要約】【目的】 レジスト成分から金属不純物をとり除くための方法の提供。【構成】 (a) 溶媒中にレジスト成分を溶解し;(b) 第4級アンモニウム化合物溶液によりカチオン交換樹脂を洗浄し;(c) この前洗浄したカチオン交換樹脂をレジスト成分の溶液と接触させて、前記レジスト成分の溶液から金属不純物を除去し;そして(d) 前記レジスト成分溶液から金属不純物を担持している前記カチオン交換樹脂を分離するの各工程からなる。
請求項(抜粋):
(a) 溶媒中にレジスト成分を溶解し;(b) 第4級アンモニウム化合物溶液によりカチオン交換樹脂を洗浄し;(c) この前洗浄したカチオン交換樹脂をレジスト成分の溶液と接触させて、前記レジスト成分の溶液から金属不純物を除去し;そして(d) 前記レジスト成分溶液から金属不純物を担持している前記カチオン交換樹脂を分離するの各工程を特徴とするレジスト成分から金属不純物を除去する方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/004 501
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • レジスト成分からの不純物の除去方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-234496   出願人:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
  • 特開昭63-126502
  • 特開昭59-176303
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