特許
J-GLOBAL ID：200903078467779510
レジスト成分からの不純物の除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-234496
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234878
出願日： 1992年09月02日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 レジスト成分からの不純物の除去方法の提供。【構成】 (a) 溶媒にレジスト成分を溶解し、(b) 前記レジスト成分溶液を繊維状イオン交換樹脂と十分な時間接触させて前記繊維状イオン交換樹脂上に不純物の少なくとも一部を除去し、そして(c) 前記レジスト成分溶液から前記イオン性不純物を持つ前記繊維状イオン交換樹脂を分離する工程を特徴とする。
請求項（抜粋）：
(a) 溶媒にレジスト成分を溶解し、(b) 前記レジスト成分溶液を繊維状イオン交換樹脂と十分な時間接触させて前記繊維状イオン交換樹脂上に不純物の少なくとも一部を除去し、そして(c) 前記レジスト成分溶液から前記イオン性不純物を持つ前記繊維状イオン交換樹脂を分離する工程を特徴とするレジスト成分からの不純物の除去方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/004 501
