特許
J-GLOBAL ID：200903034902627160

有機顔料の製造方法

発明者：
佐藤 威

佐藤 威 について

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中村 邦介

中村 邦介 について

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豊田 一郎

豊田 一郎 について


出願人/特許権者：
東洋インキ製造株式会社

東洋インキ製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-191563
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035628
出願日： 2002年07月01日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】ソルベントソルトミリング法に匹敵する、顔料粒子の微細化、整粒したキノフタロン顔料またはイソインドリン顔料の製造方法を提供する。【解決手段】キノフタロン顔料またはイソインドリン顔料から選ばれる平均粒子径が100nmより大きい粗製顔料を乾式粉砕して平均粒子径が10〜100nmのプレ顔料とする工程(1)、該プレ顔料に上記顔料に対して結晶成長作用を有する少量有機溶剤を添加して乾式粉砕し顔料の平均粒子径の変化を20nm以下に抑制しながら整粒させる工程(2)からなり、該工程(2)により得られる顔料が、粒径100nm以上の顔料粒子が全顔料粒子の10重量%以下で、かつ粒径20〜80nmの範囲の顔料粒子が全顔料粒子の60重量%以上である粒度分布を有することを特徴とする有機顔料の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
キノフタロン顔料またはイソインドリン顔料から選ばれる平均粒子径が100nmより大きい粗製顔料を乾式粉砕して平均粒子径が10〜100nmのプレ顔料とする工程(1)、該プレ顔料に上記顔料に対して結晶成長作用を有する有機溶剤を少量添加して乾式粉砕し顔料の平均粒子径の変化を20nm以下に抑制しながら整粒させる工程(2)からなり、該工程(2)により得られる顔料が、粒径100nm以上の顔料粒子が全顔料粒子の10重量%以下で、かつ粒径20〜80nmの範囲の顔料粒子が全顔料粒子の60重量%以上である粒度分布を有することを特徴とする有機顔料の製造方法。
IPC (3件)：
C09B67/02 ,  C09B67/04 ,  C09B67/20
FI (4件)：
C09B67/02 Z ,  C09B67/04 ,  C09B67/20 A ,  C09B67/20 D
引用特許：
審査官引用 (21件)
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