特許

J-GLOBAL ID：200903034905452700

プラズマ化学蒸着装置

発明者： 村田 正義 ,  竹内 良昭 ,  真島 浩 ,  高野 暁己 ,  吉田 博久
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-119142
公開番号（公開出願番号）：特開平11-312647
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】従来と比べ良好な膜厚分布が得られることを課題とする。【解決手段】反応容器31と、反応容器に反応ガスを供給する手段と、前記反応ガスを前記反応容器内から排出する手段と、前記反応容器内に配置された放電用はしご型電極と、この放電用はしご型電極に周波数30MHz乃至200MHzのグロー放電発生用電力を供給する高周波数電源36と、反応容器内に前記放電用はしご型電極と離間して平行に配置され、被処理物を支持する加熱用ヒータとを有し、前記電源から供給された電力によりグロー放電を発生し、前記被処理物表面上に非晶質薄膜あるいは微結晶薄膜あるいは多結晶薄膜を形成するプラズマ化学蒸着装置において、前記放電用はしご型電極32へ高周波数電力を供給する真空用給電線を介して、前記給電電力を均等に分配する電力分配器60を用いることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

請求項（抜粋）：

反応容器と、この反応容器に反応ガスを供給する手段と、前記反応ガスを前記反応容器内から排出する手段と、前記反応容器内に配置された放電用はしご型電極と、この放電用はしご型電極に周波数30MHz乃至200MHzのグロー放電発生用電力を供給する電源と、前記反応容器内に前記放電用はしご型電極と離間して平行に配置され、被処理物を支持する加熱用ヒータとを有し、前記電源から供給された電力によりグロー放電を発生し、前記被処理物表面上に非晶質薄膜あるいは微結晶薄膜あるいは多結晶薄膜を形成するプラズマ化学蒸着装置において、前記放電用はしご型電極へ高周波数電力を供給する真空用給電線を介して、前記給電電力を均等に分配する電力分配器を用いることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 31/04 V

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-225089   出願人：三菱重工業株式会社
• 超短波を用いたプラズマCVD法及び該プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-051776   出願人：キヤノン株式会社