ウェハ洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-339371
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196466
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】槽内の微細粒子の滞留を防ぎ、効率的なウェハ洗浄を可能にするウェハ洗浄装置を提供する。【構成】洗浄槽12内に配置する拡散板17の中央のウェハ配置領域をその周辺部より流量を大きくし、流通孔をスリットとし、交互にスリットを配置した。これにより、スリット19a,19b,19cから吐出する洗浄流が層流となり、微細粒子(パーティクル)等の滞留を防止する。

請求項（抜粋）：

洗浄槽の底部から洗浄液が供給され、該洗浄槽内に配設された拡散板の複数の流通孔を介して前記洗浄液が上方へ流出して、互いに平行を成して配置される複数のウェハを洗浄するウェハ洗浄装置において、前記拡散板中央のウェハ配置領域に、ウェハ面と平行を成す複数列の、スリット群が開孔され、相隣接する列のスリット群は交互にスリットが配置されると共に、前記拡散板のウェハ配置領域の単位面積当りの流量を、ウェハ配置領域以外の領域の単位面積当りの流量より大きく設定したことを特徴とするウェハ洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/10

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭61-125136
特開昭58-066333
特開昭58-061632

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