特許
J-GLOBAL ID:200903034973911381
光学素子及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-099871
公開番号(公開出願番号):特開平7-306301
出願日: 1994年05月13日
公開日(公表日): 1995年11月21日
要約:
【要約】【目的】 樹脂加工分野で広く知られている加工方法を適用できるケイ素系重合体から得られる光学素子を提供する。【構成】 RSiO3/2 (ここにRは有機置換基)を主な構成単位とし、ケイ素原子に結合した置換基の内10〜99.99モル%が芳香族基であり、400nm〜850nmの波長領域において88%以上の透過率を有し、且つ曲げ弾性率が50MPa 以上であり、熱変形温度が200°C以上であるケイ素系樹脂からなる光学素子。
請求項(抜粋):
RSiO3/2 (ここにRは有機置換基である)を主な構成単位とし、ケイ素原子に結合した置換基の内10〜99.99モル%が芳香族基であり、400nm〜850nmの波長領域において88%以上の透過率を有し、且つ曲げ弾性率が50MPa 以上であり、熱変形温度が200°C以上であるケイ素系樹脂からなる光学素子。
IPC (2件):
G02B 1/04
, C08G 77/38 NUF
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平3-144405
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特開昭54-130948
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光学素子用樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-083100
出願人:ダウコーニングアジア株式会社
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特開平3-144404
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特開平4-213405
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光フアイバ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-322534
出願人:信越化学工業株式会社, 日立電線株式会社
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特開平4-211454
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オルガノポリシロキサン組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-163116
出願人:信越化学工業株式会社
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オルガノポリシロキサン組成物及び光ファイバ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-345207
出願人:信越化学工業株式会社
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