特許
J-GLOBAL ID：200903034985888938
積層体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-300818
公開番号（公開出願番号）：特開平7-125161
出願日： 1993年11月08日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】 低温加工条件下でしかもラミネート厚みを薄くした場合でも優れた層間接着強度を有する、基材にエチレン系重合体が押し出しラミネートされた積層体の製造方法の提供。【構成】 基材にエチレン系重合体を押し出しラミネートするに際し、エチレン系重合体の溶融膜をオゾン処理し、このオゾン処理面をコロナ処理した直後の基材に圧着することを特徴とする、エチレン系重合体、特にエチレン・(メタ)アクリル酸共重合体又はそのアイオノマーでラミネートされた積層体の製造方法。
請求項（抜粋）：
基材にエチレン系重合体を押し出しラミネートするに際し、エチレン系重合体の溶融膜をオゾン処理し、このオゾン処理面をコロナ処理した直後の基材に圧着することを特徴とする積層体の製造方法。
IPC (7件)：
B32B 27/32
, B32B 27/32 101
, B29C 63/02
, B32B 27/16
, B32B 27/28 101
, C08J 7/00 CES
, C08J 7/00 303
