特許
J-GLOBAL ID：200903034988157543

3次元構造体の製造方法および製造装置

発明者：
佐藤 公一

佐藤 公一 について

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中澤 郁郎

中澤 郁郎 について

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東 隆司

東 隆司 について

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須田 栄

須田 栄 について

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池上 正幸

池上 正幸 について

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椿 圭一郎

椿 圭一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-018877
公開番号（公開出願番号）：特開2005-213298
出願日： 2004年01月27日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 3次元構造体を容易に製造する方法を提供する。【解決手段】 3次元構造体の製造方法であって、ブロックポリマーと液媒体を含有する液体組成物を用意する工程と、前記液体組成物に刺激を与えて前記ブロックポリマーを変性することにより3次元構造体を形成する工程とを有する3次元構造体の製造方法。液体組成物を飛翔させて前記3次元構造体を形成する工程を更に有する。ブロックポリマーを変性させた後に、前記液体組成物を固化する工程を更に有する。ブロックポリマーは両親媒性であり、かつミセルを形成する。ブロックポリマーにより機能性物質が内包されている。ブロックポリマーが、アルケニルエーテルからなるモノマー単位の繰り返し構造を有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
3次元構造体の製造方法であって、ブロックポリマーと液媒体を含有する液体組成物を用意する工程と、前記液体組成物に刺激を与えて前記ブロックポリマーを変性することにより3次元構造体を形成する工程とを有することを特徴とする3次元構造体の製造方法。
IPC (4件)：
C08J5/02 ,  B29C67/00 ,  C08F297/00 ,  C08L53/00
FI (4件)：
C08J5/02 ,  B29C67/00 ,  C08F297/00 ,  C08L53/00
Fターム (44件)：
4F071AA30 ,  4F071AA75 ,  4F071AE09 ,  4F071AG14 ,  4F071AG28 ,  4F071AG29 ,  4F071AG32 ,  4F071AG34 ,  4F071AH12 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BA04 ,  4F071BB13 ,  4F071BC02 ,  4F071BC08 ,  4F071BC09 ,  4F071BC17 ,  4F213AA32 ,  4F213WA25 ,  4F213WL02 ,  4F213WL12 ,  4F213WL23 ,  4F213WL32 ,  4F213WL74 ,  4J002BP031 ,  4J002FD096 ,  4J002GH01 ,  4J002GQ05 ,  4J002HA07 ,  4J026HA10 ,  4J026HA25 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HB10 ,  4J026HB25 ,  4J026HB32 ,  4J026HB39 ,  4J026HB45 ,  4J026HC10 ,  4J026HC25 ,  4J026HC32 ,  4J026HC39 ,  4J026HC45 ,  4J026HE04
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 光学的立体造形用樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-129265   出願人：日本合成ゴム株式会社, 日本特殊コーティング株式会社
審査官引用 (5件)
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