特許

J-GLOBAL ID：200903034996133114

シャワープレート及びプラズマ処理装置

発明者： 辻 直人 ,  福田 秀明 ,  荒井 宏貴 ,  森貞 佳紀 ,  小林 民宏
出願人/特許権者： 日本エー・エス・エム株式会社
代理人 (1件)： 池田 憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-044854
公開番号（公開出願番号）：特開2005-236124
出願日： 2004年02月20日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】 所望の特性を持つ薄膜を制御性よく安定して生成することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 プラズマ処理装置の第1の電極に用いられるシャワープレート122の表面に突起22を形成する。シャワープレート122に形成されたガス導入孔21の開口の周囲には平面図23を残す。突起22の存在により第1の電極の表面積が増加する。また、突起22同士の間でもプラズマが発生する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

複数のガス導入孔が配列形成された、プラズマ処理装置に用いられるシャワープレートにおいて、 当該シャワープレートの表面に、前記複数のガス導入孔の開口を囲む平面部と、該平面部から突出する突起部とを形成したことを特徴とするシャワープレート。

IPC (3件)：

H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  H05H1/46

FI (3件)：

H01L21/31 C ,  C23C16/455 ,  H05H1/46 A

Fターム (27件)：

4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA13 ,  4K030AA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030KA17 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045AC01 ,  5F045AC08 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC17 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第4854263号明細書
  

審査官引用 (2件)

• 特開平4-341570
  
• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-033903   出願人：鐘淵化学工業株式会社