特許
J-GLOBAL ID:200903035010982638

光ディスクの露光原盤及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 稲垣 清
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-297848
公開番号(公開出願番号):特開平8-227538
出願日: 1995年10月20日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【課題】 深さが異なる複数種類のピットを簡単な方法で精度良く形成する。【解決手段】 露光原盤10は、平坦な表面52aを有する基板52と、基板52の表面52aに被着されたフォトレジスト膜12と、露光及び現像によりこのフォトレジスト膜12に穿設された多数のピット14とを備えている。フォトレジスト膜12は、フォトレジスト膜121、122の二層からなる。ピット14は、フォトレジスト膜12の表面12aからフォトレジスト層121までの深さd1を有するP11 、P12 、...と、フォトレジスト膜12の表面12aからフォトレジスト層122までの深さd2を有するピットP21 、P22 、...との二種類がある。光ディスクに、深さが異なる2種類のピットを簡易に形成して、3値データを書き込み、その記録密度の高密度化を図る。
請求項(抜粋):
平坦な表面を有する基板と、この基板の表面に被着されたフォトレジスト膜と、露光及び現像によりこのフォトレジスト膜に穿設された多数のピットとを備えた光ディスクの露光原盤において、前記フォトレジスト膜が、露光用光源の波長に対する感度の異なる複数のフォトレジスト層からなり、該複数のフォトレジスト層が前記感度の低い順に積み重ねられており、前記ピットが前記フォトレジスト膜の表面から前記複数のフォトレジスト層のいずれかまでの深さを有することを特徴とする光ディスクの露光原盤。
IPC (5件):
G11B 7/26 501 ,  G03F 1/00 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/26 511
FI (5件):
G11B 7/26 501 ,  G03F 1/00 Z ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/26 511
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平2-029955
  • 特開平4-305831
  • 光ディスク原盤の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-302023   出願人:松下電器産業株式会社
全件表示

前のページに戻る