特許
J-GLOBAL ID：200903035011602987
大型ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-339585
公開番号（公開出願番号）：特開2006-146085
出願日： 2004年11月24日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 溶媒等を使用することなく且つ粘着剤の凝集破壊を伴わずペリクルを露光原板から除去することが可能な大型ペリクルを提供すること。【解決手段】 上端面及び下端面を有し一辺が30cmを超える四辺形ペリクル枠、該ペリクル枠の上端面に張設されたペリクル膜、及び、該ペリクル枠の下端面にペリクル枠と露光原板とを貼り付けるための粘着層を有するペリクルであって、該粘着層をペリクル枠又は露光原板から剥離する際に該粘着層が凝集破壊しない程度の凝集破断強度を有することを特徴とするペリクル。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
上端面及び下端面を有し一辺が30cmを超える四辺形ペリクル枠、該ペリクル枠の上端面に張設されたペリクル膜、及び、該ペリクル枠の下端面にペリクル枠と露光原板とを貼り付けるための粘着層を有するペリクルであって、
該粘着層をペリクル枠又は露光原板から剥離する際に該粘着層が凝集破壊しない程度の凝集破断強度を有することを特徴とする
ペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/14 J
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BC32
, 2H095BC33
出願人引用 (3件)
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米国特許第4,861,402号明細書
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特公昭63-27707号公報
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ペリクルのフォトマスクへの貼着構造
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-228580
出願人：信越化学工業株式会社
審査官引用 (2件)
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