露光装置および積層基板の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：原謙三 , 木島隆一 , 金子一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-231637
公開番号（公開出願番号）：特開2006-047881
出願日： 2004年08月06日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：

【課題】基板上に複数の層が露光処理によって形成されてなる積層基板のパターニング寸法を、所定の範囲内に調整できる露光装置、および、上記積層基板の製造方法を提供する。【解決手段】 TFT基板の製造工程において、1層目の露光倍率を設定し、設定した露光倍率に基づいて露光処理による1層目の転写を行う。2層目以降の転写は、基板の伸縮量に基づいて露光倍率を補正する。また、完成後したTFT基板とCF基板との貼り合せ精度が所定の範囲内でない場合には、貼り合せ精度を所定の範囲内にするための1層目の倍率補正値を算出し、算出した倍率補正値に基づいて次のTFT基板を製造する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

入射された光を所定の投影倍率で基板上に照射する投影光学手段と、上記基板の伸縮量を検出する伸縮量検出手段と、上記投影光学手段の投影倍率を補正する倍率補正手段と、上記検出した基板の伸縮量に基づいて上記投影光学手段の倍率補正量を算出する倍率算出手段とを備え、マスクに形成されたパターンを、投影光学手段を介して上記基板上に転写することにより、上記基板上に複数の層を形成する露光装置であって、形成後の上記複数の層のパターニング寸法を所定の範囲内の値とするための、上記基板上に1層目の層を形成する際の投影倍率、を算出する初層倍率算出手段を備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , G02F 1/13 , G02F 1/136

FI (3件)：

G03F7/20 501 , G02F1/13 101 , G02F1/1368

Fターム (12件)：

2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H092JA24 , 2H092MA16 , 2H092MA35 , 2H092NA25 , 2H092PA01 , 2H097BA02 , 2H097GB01 , 2H097GB02 , 2H097LA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-123481 出願人：株式会社ニコン

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