特許
J-GLOBAL ID：200903035063661124

深紫外線用のフォトレジスト組成物

発明者：
パドマナバン・ムニラトナ

パドマナバン・ムニラトナ について

, 
ダムメル・ラルフ・アール

ダムメル・ラルフ・アール について


出願人/特許権者：
クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド について


代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-544083
公開番号（公開出願番号）：特表2003-524799
出願日： 2000年11月18日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：
【要約】本発明は、フォトレジストの加工処理環境中の塩基性汚染物に影響を受けず、そして深紫外線領域に感度を示す新規のフォトレジスト組成物に関する。
請求項（抜粋）：
a) 酸に対して不安定な少なくとも一種の基を有しかつ水性アルカリ性溶液中に 不溶性のポリマー、b) 照射時に酸を生成することができる化合物または複数のこのような化合物の 混合物、c) スルホニウム化合物及びヨードニウム化合物から選択される少なくとも一種 の感光性塩基性化合物、及びc) 溶剤組成物を含む混合物からなる、フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/004 503 B ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (17件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20
引用特許：
審査官引用 (2件)

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