特許

J-GLOBAL ID：200903035090128659

基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム

発明者： 宮 勝彦 ,  泉 昭
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-074443
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268287
出願日： 2004年03月16日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】 ノズルから基板に向けてリンス液を吐出した後にリンス液中の溶存酸素濃度が上昇することを抑制することで、リンス液中の溶存酸素による基板の酸化を防止するとともに、基板への汚染物質の付着を抑制する。【解決手段】 純水供給源200から基板処理装置100に供給される純水は、基板処理装置100側において、窒素溶解ユニット58、78によって純水に窒素が過飽和に添加されることで窒素が溶解限度を超えて含まれるリンス液が生成される。そして、この生成されたリンス液は脱気ユニット59、79によってリンス液に含まれる窒素が溶解限度以下になるように、リンス液から窒素の一部が脱気されることで脱気済リンス液が生成される。この脱気済リンス液がノズル6,25から吐出されることによって基板Wに供給され、基板Wに対してリンス処理が施される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に処理液を供給して所定の湿式処理を施す湿式処理工程と、 純水に窒素を過飽和に添加することで窒素が溶解限度を超えて含まれるリンス液を生成するリンス液生成工程と、 前記リンス液に含まれる窒素が前記溶解限度以下となるように前記リンス液から窒素の一部を脱気して脱気済リンス液を生成する脱気工程と、 前記湿式処理工程後に、前記脱気済リンス液を前記基板に供給することで前記基板に対して前記脱気済リンス液によるリンス処理を施すリンス工程と を備えたことを特徴とする基板処理方法。

IPC (2件)：

H01L21/304 ,  B08B3/08

FI (5件)：

H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 645A ,  H01L21/304 648K ,  B08B3/08 A

Fターム (7件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板表面の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-336307   出願人：大日本スクリーン製造株式会社