特許

J-GLOBAL ID：200903035095241801

金属被膜の製造方法

発明者： 小野 博信 ,  橋本 高明 ,  島 昌秀 ,  杉尾 暢文
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-016583
公開番号（公開出願番号）：特開2007-200660
出願日： 2006年01月25日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】 本発明は、比抵抗値が低く導電性被膜として好適な金属被膜を形成し得る新規な金属被膜の製造方法を提供するものである。従来、低温時での還元が困難であり抵抗値が高い被膜となりやすかった。かかる低温時の還元処理を克服する技術を提供するものである。【解決手段】 本発明は、金属ナノ微粒子分散体を基板に塗布した後、水素ガスなどの還元性雰囲気中、1気圧より高い圧力下にて焼成することで、金属皮膜を製造する方法である。焼成温度は、50〜200°Cで行うことが好ましい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

金属ナノ微粒子分散体を基板に塗布した後、還元性雰囲気中、1気圧より高い圧力下にて焼成することを特徴とする金属被膜の製造方法。

IPC (3件)：

H01B 13/00 ,  B05D 3/02 ,  C23C 26/00

FI (3件)：

H01B13/00 503A ,  B05D3/02 Z ,  C23C26/00 B

Fターム (29件)：

4D075BB28Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA22 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB02 ,  4D075DB06 ,  4D075DB07 ,  4D075DB13 ,  4D075DB53 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075EA02 ,  4D075EA10 ,  4D075EB01 ,  4D075EB57 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044BA02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA08 ,  4K044BA10 ,  4K044BB01 ,  4K044CA24 ,  4K044CA29 ,  4K044CA44 ,  4K044CA53

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属被膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-326252   出願人：旭化成株式会社

審査官引用 (2件)

• 金属微粒子分散体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-190914   出願人：旭化成株式会社
• 金属被膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-326252   出願人：旭化成株式会社