特許
J-GLOBAL ID：200903035116060497

偏向磁場型真空アーク蒸着装置

発明者：
村上 泰夫

村上 泰夫 について

, 
三上 隆司

三上 隆司 について


出願人/特許権者：
日新電機株式会社

日新電機株式会社 について


代理人 (1件)： 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169754
公開番号（公開出願番号）：特開2005-002454
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】ダクト端部共通型の偏向磁場型真空アーク蒸着装置であって、被成膜物体上に所望構造の良質の薄膜を生産性良好に形成することができる偏向磁場型真空アーク蒸着装置を提供する。【解決手段】蒸着ユニットUN1、UN2を備え、該ユニットは蒸発源3、3’と、磁場形成コイル400、42、42’が付設された湾曲フイルターダクト4、4’とを含んでいる。ダクト4、4’は、被成膜物品支持ホルダ2に臨むダクト端部40が共通に形成され、各ダクトの反対側端部41、41’に蒸発源3、3’が設置されている。ダクト端部40に共通のコイル400が設置されているとともに各ダクトにもう一つの磁場形成コイル42、42’が設置されている。各コイルに設置状態の調整装置(モータm1、m2及び駆動装置PC、モータM1、M2及び駆動装置PC1 、モータM1’、M2’及び駆動装置PC1 ’)が設けられている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の蒸着ユニットを備えており、該各蒸着ユニットは、カソードとアノード間の真空アーク放電により該カソード材料を蒸発させるとともにイオン化する蒸発源と、該カソード材料構成元素を含む膜をホルダに支持される被成膜物体上に形成するために該蒸発源によりイオン化されたカソード材料を該ホルダへ向け飛翔させる偏向磁場形成部材が付設された湾曲フイルターダクトとを含んでおり、該複数蒸着ユニットのそれぞれの前記湾曲フィルターダクトは、前記ホルダに臨むダクト端部が他の湾曲フィルターダクトの該ホルダに臨むダクト端部と共通に形成されており、該各フィルターダクトの反対側端部に少なくとも一つの前記蒸発源が設置されている偏向磁場型真空アーク蒸着装置であり、 前記複数の蒸着ユニットのフィルターダクトのうち少なくとも一本のフィルターダクトに対し設けられた前記偏向磁場形成部材のうち少なくとも一つの偏向磁場形成部材の該フィルターダクトに対する設置状態を磁場制御のために調整する磁場形成部材調整装置を備えていることを特徴とする偏向磁場型真空アーク蒸発装置。
IPC (2件)：
C23C14/24 ,  C23C14/32
FI (2件)：
C23C14/24 F ,  C23C14/32 Z
Fターム (10件)：
4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BC01 ,  4K029BC02 ,  4K029BD00 ,  4K029BD03 ,  4K029BD05 ,  4K029DD06 ,  4K029DE05 ,  4K029EA00
引用特許：
審査官引用 (3件)

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