特許
J-GLOBAL ID：200903059848459259
強化されたマクロ粒子フィルタおよび陰極アーク源
タン、 ホン、 シアン
, タン、 ホン、 シアン について
テイ、 ベン、 カン
テイ、 ベン、 カン について
出願人/特許権者：
フィルプラス ヴァキューム テクノロジー ピーティーイー.リミテッド
フィルプラス ヴァキューム テクノロジー ピーティーイー.リミテッド について
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-518404
公開番号（公開出願番号）：特表2001-521066
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
要約：
【要約】基板上に被膜を堆積するための陰極アーク源が、ターゲット用の陽極および陰極ステーションと、少なくとも1つの湾曲部を有するフィルタダクトを有する第1のフィルタ手段と、プラズマからマクロ粒子を除去するために、プラズマを、第1のフィルタダクトを通り抜けるように案内する第1の磁気的手段とを有している。この装置は、バッフル11と、プラズマが通過可能な開口12と、プラズマを開口を通り抜けるように案内する第2の磁気的手段13とから構成されている、プラズマからマクロ粒子をさらに除去するための第2のフィルタ10を有している。このアーク源はイオンビーム源も含むことができる。第2のフィルタを用い、必要な時にフィルタ内の開口を閉じる、イオンの被膜の堆積方法も記載されている。
請求項（抜粋）：
被膜を基板上に堆積するための陰極アーク源であって、 ターゲット用の陽極および陰極ステーションと、 少なくとも1つの湾曲部を有するフィルタダクトを有する第1のフィルタ手段と、 プラズマからマクロ粒子を除去するために、該プラズマを、前記フィルタダクトを通り抜けるように案内する第1の磁気手段とを有し、 その装置が、バッフルと、前記プラズマが通過可能な開口と、前記プラズマを前記開口を通り抜けるように案内する第2の磁気手段とを有する、前記プラズマからマクロ粒子をさらに除去するための第2のフィルタを有している陰極アーク源。
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
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