特許
J-GLOBAL ID：200903035198654284

ポーラスな分子的にインプリントされたポリマーおよびその製造方法

発明者：
セラーグレン、ベルジェ

セラーグレン、ベルジェ について

, 
ビュヒェル、グンター

ビュヒェル、グンター について


出願人/特許権者：
エムアイピー・テクノロジーズ・エービー

エムアイピー・テクノロジーズ・エービー について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-535454
公開番号（公開出願番号）：特表2003-514051
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2003年04月15日
要約：
【要約】ポーラスな分子的にインプリントされたポリマーおよびその調製方法を記載している。ポーラスな分子的にインプリントされたポリマーは、ポーラスシリカを準備し、ポーラスシリカの表面に分子鋳型を付着させ、ポーラスシリカのポアをポリマーで充填し、シリカおよび分子鋳型を除去し、それによってポーラスな分子的にインプリントされたポリマーを残すことによって得られることを特徴とする。その方法は上記で規定した工程により特徴づけられる。また、分子鋳型がなく、したがってポーラスポリマーへの分子インプリントがないことを除いて、ポーラスな分子的にインプリントされたポリマーおよびその調製方法に対して規定したのと同じ特徴を持つポーラスなポリマー小胞体とその調製方法も記載している。
請求項（抜粋）：
ポーラスシリカを準備し、ポーラスシリカの表面に分子鋳型を付着させ、ポーラスシリカのポアを1種または複数種のモノマーで充填した後、モノマーを重合させ、シリカおよび分子鋳型を除去し、それによってポーラスな分子的にインプリントされたポリマーを残すことによって得られることを特徴とするポーラスな分子的にインプリントされたポリマー。
IPC (4件)：
C08F 6/00 ,  C08G 85/00 ,  B01J 20/26 ,  B01J 20/28
FI (4件)：
C08F 6/00 ,  C08G 85/00 ,  B01J 20/26 L ,  B01J 20/28 Z
Fターム (15件)：
4G066AA22D ,  4G066AA32D ,  4G066AC17B ,  4G066AC22B ,  4G066EA01 ,  4G066FA07 ,  4G066FA11 ,  4J031CA01 ,  4J031CA24 ,  4J031CA32 ,  4J031CA34 ,  4J031CC10 ,  4J100GD00 ,  4J100JA15 ,  4J100JA50
引用特許：
審査官引用 (8件)
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引用文献：
審査官引用 (9件)
  • Ordered mesoporous polymers of tunable pore size f, 19990212, Vol.283, 963ー965
  • Ordered mesoporous polymers of tunable pore size f, 19990212, Vol.283, 963ー965
  • Anobel pathway for synthesis of submicrometer-size, 1998, 1036-1038
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