特許
J-GLOBAL ID：200903035260791471
レベンソン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-038030
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241360
出願日： 2002年02月15日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】面内で均一性に優れた浅い掘込み部の深さを有し、転写寸法差をより低減することのできる、また、浅い掘込み部の深さが制約されず、容易に製造することのできるレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。【解決手段】位相差を0度とする開口部41Aに浅い掘込み部43Aを設け、位相差を180度とする開口部41Bにアンダーカットを有する深い掘込み部43Bを設け、浅い掘込み部の光量と深い掘込み部の光量を略等しくしたこと。浅い掘込み部の深さを、より浅く又はより深く設け、この深さの変動に対応しアンダーカットの巾を、より広く又はより狭く変動させて設けたこと。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光部と開口部が繰り返し存在し、一つ置きの開口部を通過する透過光の位相を反転させるレベンソン型位相シフトマスクにおいて、透過光の位相差を0度とする開口部(開口部A)に浅い掘込み部を設け、透過光の位相差を180度とする開口部(開口部B)にアンダーカットを有する深い掘込み部を設け、浅い掘込み部を透過する透過光の光量と深い掘込み部を透過する透過光の光量を略等しくしたことを特徴とするレベンソン型位相シフトマスク。
Fターム (1件)：
引用特許：
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