特許
J-GLOBAL ID：200903035310779370
レゾルバステータ構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 田口 雅啓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-188612
公開番号（公開出願番号）：特開2009-027841
出願日： 2007年07月19日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】本発明は、各端子ピンの周囲に壁によって囲まれた複数のワニス溜り用凹部を形成し、各巻線の端線を各端子ピンにからげてワニス処理した場合におけるワニスからの浮き線の発生を防止することを目的とする。【解決手段】本発明によるレゾルバステータ構造は、輪状ステータ(1)の輪状絶縁キャップ(3)の端子ピン保持部(4)の各端子ピン(7)を端子ピン保持部壁(5)と端子ピン間壁(20)によって各々囲い、各端子ピン(7)の端線(8a)をワニス処理するワニス(10)の量を少なくし、かつ、ワニス垂れを防止する構成である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の磁極(2)を有する輪状ステータ(1)と、前記輪状ステータ(1)の両面に設けられ前記各磁極(2)を覆うための一体もしくは一対の輪状絶縁キャップ(3)と、前記輪状絶縁キャップ(3)の一部(3a)から外方へ向けて一体に突出する端子ピン保持部(4)と、前記端子ピン保持部(4)に設けられ互いに間隔をおいて配設された複数の端子ピン(7)と、前記端子ピン保持部(4)に形成され前記端子ピン保持部(4)の側部周囲を囲うように位置する端子ピン保持部壁(5)と、前記端子ピン保持部(4)の一面(4a)に形成され前記各端子ピン(7)間に位置する複数の端子ピン間壁(20)と、前記各磁極(2)に巻回されその各端線(8a)が前記各端子ピン(7)にからげて接続された巻線(8)と、前記各端子ピン間壁(20)と前記端子ピン保持部壁(5)によって前記各端子ピン(7)の周囲に形成された複数のワニス溜り用凹部(6)と、前記各ワニス溜り用凹部(6)内に供給されたワニス(10)と、を備え、
前記巻線(8)の端線(8a)は、前記ワニス(10)により保持されていることを特徴とするレゾルバステータ構造。
IPC (3件)：
H02K 3/52
, H02K 24/00
, G01D 5/245
H02K3/52 E
, H02K24/00
, G01D5/245 201K
2F077AA46
, 2F077FF34
, 2F077PP26
, 2F077VV31
, 2F077VV33
, 2F077WW06
, 5H604AA05
, 5H604AA08
, 5H604BB13
, 5H604CC01
, 5H604CC05
, 5H604CC16
, 5H604PC04
, 5H604QA08
, 5H604QB15
出願人引用 (2件)
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米国特許第6,873,074号明細書
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米国特許第5,920,135号明細書
審査官引用 (2件)
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