二成分三元触媒作用を用いる触媒膜反応器

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-517796
公開番号（公開出願番号）：特表2001-520931
出願日： 1998年10月29日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
要約：

【要約】本発明は、酸素アニオンの運搬用の気体不透過性膜(2)を有する触媒反応器膜に関する。膜(2)は、酸化面および還元面を有する。膜(2)は、その酸化面にて、接着触媒層で被覆されており、そして必要に応じて、その還元面にて、酸素含有種(例えば、O2、NO2、SO2など)の還元を促進してこの膜にて酸素アニオンを発生させる触媒で被覆されている。反応器(20)は、酸化ゾーン(4)および還元ゾーン(6)を有し、これらは、膜(2)により分離されている。還元ゾーン(6)にある酸素含有ガスの成分は、膜(2)にて還元され、そしてこの反応器の酸化ゾーン(4)にある反応物ガス中の還元された種は、酸化される。反応器(20)は、必要に応じて、酸化ゾーン(4)にて、三元触媒(5)を含有する。この接着触媒層および三元触媒(5)は、所望の酸化反応(特に、炭化水素の部分酸化)を促進するように、選択される。本発明の好ましい膜材料は、混合された金属酸化物(これは、褐色針ニッケル鉱から誘導され、それ自体、褐色針ニッケル鉱構造を有することができる)である。好ましい実施態様では、この酸素還元触媒は、La0.8Sr0.2CoO3-x担持Pd(5重量%)である。この接着触媒層は、La0.8Sr0.2MnO3担持Ni(20重量%)であり、そしてこの三元触媒は、アルミナ担持Ni(5重量%)である。

請求項（抜粋）：

触媒膜反応器であって、以下: 酸化ゾーンおよび還元ゾーンであって、該酸化ゾーンおよび該還元ゾーンは、気体不透過性膜により分離されており、該気体不透過性膜は、該酸化ゾーンと接触した酸化面および該還元ゾーンと接触した還元面を有する; 該膜の該酸化面にある接着触媒層; 該酸化ゾーンにある三元触媒、を包含し、ここで、該膜は、単一相の混合したイオン伝導性および電子伝導性セラミックであり、そして該触媒層および該三元触媒は、酸化反応を促進する、触媒膜反応器。

IPC (8件)：

B01J 19/24 , B01D 71/02 , B01J 8/02 , B01J 12/00 , B01J 23/00 , B01J 35/06 , C01B 3/38 , C01B 13/02

FI (8件)：

B01J 19/24 A , B01D 71/02 , B01J 8/02 Z , B01J 12/00 , B01J 23/00 , B01J 35/06 , C01B 3/38 , C01B 13/02

Fターム (67件)：

4D006GA50 , 4D006MA03 , 4D006MB03 , 4D006MB19 , 4D006MC02 , 4D006MC03 , 4D006PA10 , 4D006PB20 , 4D006PC80 , 4G040EA03 , 4G040EA07 , 4G040EC02 , 4G040EC03 , 4G040EC04 , 4G040EC05 , 4G040EC08 , 4G042BA08 , 4G042BB01 , 4G042BB02 , 4G042BB08 , 4G042BC05 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069AA11 , 4G069BA01B , 4G069BB06A , 4G069BB06B , 4G069BC08A , 4G069BC09A , 4G069BC12A , 4G069BC13A , 4G069BC16A , 4G069BC17A , 4G069BC18A , 4G069BC32A , 4G069BC40A , 4G069BC41A , 4G069BC54A , 4G069BC58A , 4G069BC59A , 4G069BC60A , 4G069BC62A , 4G069BC66A , 4G069BC67A , 4G069BC68A , 4G069BC71A , 4G069BC72A , 4G069BC74A , 4G069BC75A , 4G069CC04 , 4G069EA07 , 4G069EC22Y , 4G069FB70 , 4G070AA01 , 4G070AB04 , 4G070BB01 , 4G070CA01 , 4G070CB17 , 4G075AA03 , 4G075BA06 , 4G075BD14 , 4G075CA54 , 4G075EB50 , 4G075EE02 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FC11

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平2-017947
ペロブスカイト型酸化物薄膜及びペロブスカイト類似型酸化物薄膜並びにそれらの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-020775 出願人：出光興産株式会社

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