研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-294874
公開番号（公開出願番号）：特開2001-155332
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】サブストレートの仕上げ研磨において、研磨時における振動の発生とその振動によるチャンファ部の損傷を防止することのできる研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法と提供する。【解決手段】サブストレートを研磨するための研磨用組成物であって、含有量が組成物全重量の0.1〜50重量%の研磨材と、含有量が組成物全重量の0.0001〜3.0重量%の研磨抵抗抑制剤と、含有量が組成物全重量の0.001〜40重量%の研磨促進剤と、水とを含んでなるものである。

請求項（抜粋）：

メモリーハードディスクに使用される磁気ディスク用基盤を研磨するための研磨用組成物であって、(a)含有量が組成物の全重量に対して0.1〜50重量%の範囲内の二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素および二酸化マンガンからなる群より選択される少なくとも1種類の研磨材と、(b)含有量が組成物の全重量に対して0.0001〜3.0重量%の範囲内の界面活性剤、水溶性高分子および水溶性電解質からなる群より選択される少なくとも1種類の研磨抵抗抑制剤と、(c)含有量が組成物の全重量に対して0.001〜40重量%の範囲内の無機酸、有機酸およびそれらのアルミニウム、鉄、ニッケルおよびコバルト塩からなる群より選択される少なくとも1種類の研磨促進剤と、(d)水とを含んでなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (4件)：

G11B 5/84 , B24B 37/00 , C09K 3/14 550 , C09K 3/14

FI (4件)：

G11B 5/84 A , B24B 37/00 H , C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-008771 出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
研磨・研削液
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-155049 出願人：一方社油脂工業株式会社
研磨液組成物及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-051987 出願人：三菱化学株式会社

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