特許

J-GLOBAL ID：200903035388620807

酸素ガス吸収剤およびその製造法

発明者： 足立 貴義 ,  内野 誠 ,  安藤 紳一
出願人/特許権者： 大陽東洋酸素株式会社
代理人 (1件)： 大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167735
公開番号（公開出願番号）：特開2001-340754
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】 有機-無機複合錯体からなり、かつ酸素ガスを選択的に吸収するが、窒素ガスはほとんど吸収しない錯体からなる酸素ガス吸収剤を提供すること、およびその酸素ガス吸収剤の工業的な製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とから合成される錯体からなる酸素ガス吸収剤である。この酸素ガス吸収剤は、銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とを、両者を溶解する溶媒中で反応させることにより錯体を得、ついでその錯体を加熱処理することにより製造される。

請求項（抜粋）：

銅イオンとトリメシン酸アルカリ金属塩とから合成される錯体からなることを特徴とする酸素ガス吸収剤。

IPC (4件)：

B01J 20/22 ,  C07C 51/41 ,  C07C 63/307 ,  C07F 1/08

FI (4件)：

B01J 20/22 A ,  C07C 51/41 ,  C07C 63/307 ,  C07F 1/08 B

Fターム (38件)：

4G066AA13A ,  4G066AA15A ,  4G066AA15B ,  4G066AA43A ,  4G066AB03A ,  4G066AB03B ,  4G066AB07A ,  4G066AB24B ,  4G066BA22 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA37 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4G066GA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB99 ,  4H006AC47 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BC51 ,  4H006BE12 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS30 ,  4H006BS70 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB99 ,  4H048AC47 ,  4H048BB14 ,  4H048BB31 ,  4H048BC51 ,  4H048BE12 ,  4H048VA20 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 多孔質錯体とその製造法および吸着剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-138328   出願人：大陽東洋酸素株式会社
• ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-013696   出願人：大阪瓦斯株式会社
• 新規三次元型有機金属錯体及びガス吸着材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283051   出願人：大阪瓦斯株式会社, 森和亮

審査官引用 (1件)

• 多孔質錯体とその製造法および吸着剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-138328   出願人：大陽東洋酸素株式会社